阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造，推动分子传感技术发展
该专利最具科幻色彩的部分在于引入了机电调节系统
可替代EUV光刻机 工艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术
1.4nm制程！纳米压印技术突破
日企开发出1/10电量制造1.4纳米半导体的技术
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