该技术具备高功率、高相干性、波长可调谐以及更高能效等优势，理论上可将光刻光源从当前主流的13.5nm推向6nm乃至更短波长，大幅延伸摩尔定律的生命周期。
业界指出，为突破摩尔定律的极限，当半导体制程迈入 1 纳米以下节点时，寻找新材料已成为必然趋势。
廖恒提出，行业迭代不止依赖传统制程升级，衍生出新的产业迭代规律，无论是摩尔定律还是韬定律，本质都是工程师用爱迪生式思路解决技术问题，核心逻辑永远是先精准定义核心问题，再寻找有效解决方案、落地优化答案，这是半导体技术持续突破的底层逻辑。
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