中国虽然无法获得EUV光刻机，但仍可以通过增加DUV光刻机多重曝光（multiple patterning）的次数来制造先进芯片，只是良率会明显下降。
美国调整对中国芯片设备法案：仍限制ASML DUV光刻机 禁止中芯国际、长江长鑫等使用
美拟禁止向中国出口DUV光刻机：禁止中芯国际、长江长鑫等使用
ASML遭炮轰：DUV光刻机也不能卖给中国！可能涉军
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