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北大团队首创技术“拍清”芯片制造核心难题，光刻胶关键步骤微观行为首度揭秘

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半导体国产化提速，光刻胶核心材料替代空间巨大，哪些企业受益？

09/17

无锡启动国内首个EUV光刻胶技术平台打破5nm以下工艺关键材料垄断

09/09

芯片制造的“投影微雕术”：光刻段工艺

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09/01

国内独家，光刻胶小巨人，又一个“片仔癀”！

08/20

好样的！中芯正式发布，产能利用率92.5%

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08/10

八亿时空：业绩滑坡、股东套现，光刻胶树脂业务能否成“救星”？

07/28

我国大模型数量居全球首位；AI投资联盟成立；清华开发出新型光刻胶

07/28

科技昨夜今晨0727：清华大学开发出理想 EUV 光刻胶材料

07/27

重要进展：清华大学开发出理想的极紫外（EUV）光刻胶材料

07/26

清华大学官宣！EUV光刻胶材料取得重要进展

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07/24

八亿时空高端光刻胶树脂双产线落成构建国产替代核心能力

07/23

八亿时空建成国内首条百吨级半导体KrF光刻胶树脂高自动化柔性/量产双产线预计营收规模超亿元

07/22

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