更为关键的是，日本光刻胶的发展，正好赶上了全球半导体发展的黄金时期，70年代的集成电路、80年代的日本半导体再到90年代的全球晶圆厂持续扩张，日本光刻胶每一次的迭代都是站在真实的产业需求上，因此他能比别人更早地生产并量产ArF/EUV光刻胶。
先说说ASML有多牛，极紫外（EUV）光刻机（给芯片"印电路"的核心设备，全世界只有这家荷兰公司能造最先进型号）一台就要4亿美元（约27亿元人民币），零件超过10万个，每年研发投入高达50亿美元。
快科技7月31日消息，据媒体报道，鼎龙股份在近日机构调研中披露了半导体材料领域的产品布局与最新进展，涵盖晶圆光刻胶、CMP配套材料、先进封装材料及显示材料四大板块。
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该公司增长依赖全球晶圆厂扩产浪潮。
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