可替代EUV光刻机 工艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术
中国首个进入川藏高原腹地特高压工程今日建成投运，每年可输送近400亿千瓦时清洁电能
三星晶圆代工市场份额跌破7% 积极与AMD洽谈2nm订单
认清事实！阿斯麦对华出口光刻机比最新落后八代 技术差距超10年
也就是Circuit Sparsity技术的开源实现
谷歌最新一代TPU Ironwood的能效比为其前代TPU的6倍
目前阿斯麦对华出口的设备比最新光刻技术落后了八代
公司采用以人为本的AI策略，明确将人类视为创意的核心
如何才能不被机器人替代 经济学家杨德龙建议：通过资本来投资
H200的回归并非意味着英伟达能完全重夺中国市场
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