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可替代EUV光刻机 工艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术
1.4nm制程！纳米压印技术突破
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中国光刻胶领域取得新突破！首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”
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北大团队首创技术“拍清”芯片制造核心难题，光刻胶关键步骤微观行为首度揭秘
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芯片制造的“投影微雕术”：光刻段工艺
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新款光刻机，突破先进封装技术！明年上市
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