上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)近日中标一项步进扫描式光刻机采购项目。

该项目采购方为zycgr22011903，采购数量为一台，成交金额约1.1亿元。

中国政府采购网披露的公告显示，中标供应商为SMEE，注册地址位于上海市张江高科技园区张东路1525号。

本次中标设备为步进扫描式光刻机，型号为SSC800/10。

尽管未具体点名，但中国政府采购网11月的一份公告显示，科学技术部申请zycgr22011903步进扫描式光刻机采购项目采用单一来源方式采购，项目预算金额1.13亿元。

当时提及的潜在政府采购供应商，正是SMEE。

受此消息影响，以园区开发为主业的A股上市公司张江高科(600895.SH)股价下午2点34分突然开始拉升，下午2点40分时最高涨到43.88元，6分钟内暴涨约7.76%。

截至今日A股收盘，张江高科报42.48元/股，录得涨幅4.81%，总市值657.88亿元。

据财联社，今日午后光刻机概念异动拉升，国风新材(000859.SZ)直线涨停，走出3天2板，华软科技(002453.SZ)、华融化学(301256.SZ)、高盟新材(300200.SZ)等冲高。

天眼查显示，张江高科通过子公司张江浩成持有10.7787%的SME股份。

公开资料显示，国有控股的SMEE成立于2002年，专注于半导体装备、泛半导体装备和高端智能装备研发制造，为国内唯一能量产前道光刻机的企业。

官网信息显示，SMEE主要光刻机产品有SSX600系列光刻机、SSB500系列步进光刻机、SSB300系列步进光刻机、SSB200小Mask系列曝光机、SSB200大Mask系列曝光机。

其中，最先进的型号是SSA600/20，采用深紫外光源(DUV)，分辨率为90nm，可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。

今年5月，SMEE宣布成功交付首台28nm浸没式光刻机，可支持7nm及以上制程。

据称其28nm光刻机样机目前已被送至中芯国际、华虹半导体等头部晶圆厂进行工艺适配，预计在年内实现量产。

从技术路径看，自1961年首台光刻机问世以来，作为半导体制造关键步骤，光刻技术历经接触式、接近式到投影式发展。

因显著提升掩模利用率和曝光精度，目前步进扫描式光刻机为行业主流，占据光刻机市场份额的70%以上。

该类设备通过动态扫描方式，使掩模版相对晶圆同步进行运动，在完成26mm×33mm曝光场的曝光后，再转移至下一曝光场，直至整个晶圆片曝光完毕。

进入2025年，光刻机国产化进程明显加快。

11月25日，拆分自SMEE的上海芯上微装科技股份有限公司(AMIES)宣布，其自主研发的首台350nm步进光刻机AST6200完成出厂调试和验收，并启程发往客户现场。

AST6200并非用于高端逻辑芯片，而是专为功率、射频、光电子及Micro LED等场景量身定制的。

与此同时，国产厂商在技术展示和产品落地层面亦动作频频。

9月23日有消息称，深圳稳顶聚芯技术有限公司已宣布，其研发的首台国产高精度Stepper (步进式)光刻机顺利出厂。

9月24日，在上海国家会展中心举行的第二十五届中国国际工业博览会上，SMEE展台首次公开展示了极紫外(EUV)投影微场曝光装置，并披露了部分相关技术内容。

在多家企业持续推进研发和产业化的背景下，国产光刻机正从成熟制程加速向更高技术层级迈进。